GS-CarbonPLOT
? 高穩(wěn)定性,鍵合了碳層的固定相
? 對(duì)無(wú)機(jī)氣體和有機(jī)氣體有獨(dú)特的選擇性
? 溫度上限擴(kuò)展至360°C
? GC/MS 的理想選擇——不生成任何顆粒物
? 保留穩(wěn)定性不會(huì)受到水分影響
內(nèi)徑(mm) | 長(zhǎng)度(m) | 膜厚(μm) | 溫度范圍(°C) | 7英寸柱架 | 7890/6890LTM模塊 |
0.32 | 15 | 1.50 | 0至360 | 113-3112 | 113-3112LTM |
30 | 1.50 | 0至360 | 113-3132 | 113-3132LTM | |
3.00 | 0至360 | 113-3133 | 113-3133LTM | ||
60 | 1.50 | 0至360 | 113-3162 | ||
0.53 | 15 | 3.00 | 0至360 | 115-3113 | 115-3113LTM |
30 | 3.00 | 0至360 | 115-3133 | 115-3133LTM |
HP-PLOT 分子篩柱
? 適用于分析永久性氣體的PLOT 柱
? 不到5 分鐘時(shí)間分離O2、N2、CO 和CH4
? 耐用分子篩5? 涂層使基線的尖峰信號(hào)最低,對(duì)多通閥的損害最小
? 分離Ar/O2 時(shí)選用厚膜即無(wú)需進(jìn)行低溫冷卻
? 進(jìn)行常規(guī)空氣監(jiān)測(cè)應(yīng)用,選擇薄膜HP-PLOT 分子篩柱
? 取代GS-分子篩柱
注:分子篩柱會(huì)吸附水,時(shí)間久了會(huì)導(dǎo)致保留時(shí)間變化。我們使用一種先進(jìn)的專(zhuān)利脫活方
法,可使色譜柱快速再生。完全飽和的HP-PLOT 分子篩柱在低于200°C 的條件下7 小時(shí)內(nèi)
再生。
內(nèi)徑(mm) | 長(zhǎng)度(m) | 膜厚(μm) | 溫度范圍(°C) | 7英寸柱架 | 5英寸柱架 | 7890/6890LTM模塊 |
0.32 | 15 | 25.00 | -60至300 | 19091P-MS7 | 19091P-MS7LTM | |
30 | 12.00 | -60至300 | 19091P-MS4 | 19091P-MS4E | 19091P-MS4LTM | |
25.00 | -60至300 | 19091P-MS8 | 19091P-MS8LTM | |||
0.53 | 15 | 25.00 | -60至300 | 19095P-MS5 | 19095P-MS5LTM | |
50.00 | -60至300 | 19095P-MS9 | 19095P-MS9LTM | |||
30 | 25.00 | -60至300 | 19095P-MS6 | 19095P-MS6E | 19095P-MS6LTM | |
50.00 | -60至300 | 19095P-MS0 | 19095P-MS0E | 19095P-MS0LTM |